石墨粉如何去雜質(zhì)？

       金屬及半導體資料的出產(chǎn)常常會用到石墨粉坩堝，為了讓金屬和半導體資料到達必定的純度，削減雜質(zhì)的數(shù)量，要求運用含碳量很高，雜質(zhì)很低的石墨粉。這時在加工時就需要對石墨粉進行雜質(zhì)去除。很多客戶不了解石墨粉去雜質(zhì)怎樣處理。
       出產(chǎn)石墨粉時，從原資料的挑選上就應該開端嚴格的控制雜質(zhì)的含量，要挑選灰份低的原資料，并在加工石墨粉過程中防止添加雜質(zhì)。很多雜質(zhì)元素的氧化物在高溫的狀況下在不斷分化和蒸騰，然后保證出產(chǎn)出來的石墨粉的純度。
       在出產(chǎn)一般石墨粉化產(chǎn)品時，爐芯溫度到達2300℃左右，殘留雜質(zhì)含量為0.1%—0.3%左右。假如將爐芯溫度進步到2500-3000℃，那殘留雜質(zhì)含量將會大大削減。出產(chǎn)石墨粉產(chǎn)品時，電阻料及保溫料一般運用低灰分的石油焦。
       即便單純進步石墨粉化溫度到達2800℃的高溫，有些雜質(zhì)還是很難去除的。部分公司采用縮小爐芯及進步電流密度等進步溫爐的方法提取石墨粉，將石墨粉化爐產(chǎn)值下降，電量消耗添加，因而出產(chǎn)石墨粉時在石墨粉化爐溫度到達1800℃時，通入凈化氣體，如通入氯氣、氟利昂等氯化物和氟化物，一直在停電后繼續(xù)參加數(shù)小時，這是為了防止氣化的雜質(zhì)反方向向爐內(nèi)擴散，在通入一些氮氣從石墨粉氣孔中驅(qū)除剩下的凈化氣體，方便出爐操作。